依需求選擇鍍膜方案
不同產品對規格、數量與成本的要求不同。我們依應用需求提供三種鍍膜方案,讓每個專案都用對的製程完成。
標準功能鍍膜
穩定量產、成本導向。適合規格明確、需要大量穩定供貨的玻璃基板鍍膜。
- 抗反射鍍膜(AR)
- ITO / FTO 透明導電膜
- 金屬濺鍍(Cr / Au / Al)
- 介電質多層膜
精密光學鍍膜
嚴格光學規格,從打樣到量產。適合波長、穿透率與均勻性要求嚴格的光學元件與感測應用。
- 紫外至紅外帶通濾光片
- 雷射反射鏡、分色鏡
- 傾斜膜與多區濾光片
- 微米級黃光圖形化
依需求選擇鍍膜方案
不同產品對規格、數量與成本的要求不同。我們依應用需求提供三種鍍膜方案,讓每個專案都用對的製程完成。
標準功能鍍膜
穩定量產、成本導向。適合規格明確、需要大量穩定供貨的玻璃基板鍍膜。
- 抗反射鍍膜(AR)
- ITO / FTO 透明導電膜
- 金屬濺鍍(Cr / Au / Al)
- 介電質多層膜
精密光學鍍膜
嚴格光學規格,從打樣到量產。適合波長、穿透率與均勻性要求嚴格的光學元件與感測應用。
- 紫外至紅外帶通濾光片
- 雷射反射鏡、分色鏡
- 傾斜膜與多區濾光片
- 微米級黃光圖形化
標準功能鍍膜
依功能需求提供多種鍍膜工藝,全面提升玻璃基板的光學與電氣性能。
抗反射鍍膜(AR Coating)
降低玻璃表面反射率至 < 0.5%,大幅提升透光率,適用於相機鏡頭、感測窗及顯示面板保護玻璃。
ITO / FTO 透明導電鍍膜
透明導電氧化物薄膜,片電阻 10~200 Ω/□ 可調,適用於觸控面板、太陽能電池及電熱除霧玻璃。
金屬濺鍍(Cr / Au / Al)
高黏附性金屬薄膜,可製作電極層、遮罩層或散熱層,廣泛應用於 MEMS 微製程及半導體晶圓製程。
介電質多層膜
高/低折射率材料交替堆疊,可製作帶通濾波片、高反射鏡、分束鏡等精密光學元件,波長範圍可客製。
標準功能鍍膜
依功能需求提供多種鍍膜工藝,全面提升玻璃基板的光學與電氣性能。
抗反射鍍膜(AR Coating)
降低玻璃表面反射率至 < 0.5%,大幅提升透光率,適用於相機鏡頭、感測窗及顯示面板保護玻璃。
ITO / FTO 透明導電鍍膜
透明導電氧化物薄膜,片電阻 10~200 Ω/□ 可調,適用於觸控面板、太陽能電池及電熱除霧玻璃。
金屬濺鍍(Cr / Au / Al)
高黏附性金屬薄膜,可製作電極層、遮罩層或散熱層,廣泛應用於 MEMS 微製程及半導體晶圓製程。
介電質多層膜
高/低折射率材料交替堆疊,可製作帶通濾波片、高反射鏡、分束鏡等精密光學元件,波長範圍可客製。
精密光學鍍膜
針對感測器、雷射、半導體設備與醫療儀器等高規格應用,從膜系設計、成膜到量測驗證一次完成,單片即可打樣。
離子輔助蒸鍍為主
以離子輔助蒸鍍(IAD)為主力,搭配電子束蒸鍍與濺鍍。膜層緻密、附著力高,不易受水氣影響而產生特性漂移。
紫外到紅外全波段
涵蓋 250 nm 紫外至 15 μm 紅外波段,可單獨承接光學模擬與量測。
多種基板與外形
玻璃、石英、樹脂、金屬與晶體材料;平板、鏡片、稜鏡與異形件,從小口徑到大型基板。
完整量測與信賴性驗證
依 ISO 9001 品質體系管控,配備 6 台分光光度計、紅外分光光度計、雷射干涉儀,以及恆溫恆濕、冷熱衝擊測試。
代表產品與實測規格
i 線帶通濾光片(365 nm)
i-Line Bandpass Filter
上升邊陡峭、面內均勻性佳,適用於半導體曝光設備。
- 穿透率
- 約 90%
- 半高寬
- ≤ 7 nm
- 中心波長偏差
- ≤ 2 nm(Φ100 mm 範圍內)
220 nm 紫外帶通濾光片
Deep UV Bandpass Filter
採用降低紫外吸收的成膜方式,實測曲線與設計值吻合,再現性佳。
- 穿透率
- 約 90%(220 nm 附近)
- 信賴性
- 60 °C/90% RH、288 小時後波形無明顯偏移
紅外線帶通濾光片
IR Bandpass Filter for Gas Sensing
只讓特定氣體的吸收波段通過,紅外波段任意中心波長皆可設計,單片即可提案。
- 對應氣體
- CH₄、CO₂、CO、NO、SO₂、O₃、SF₆ 等
- 用途
- NDIR 氣體感測器、分析儀
雷射反射鏡
Laser Mirror
單一或多雷射波長的高反射鏡,指定觀察波長可同時穿透。
- KrF 248 nm
- 石英基板,反射率 ≥ 99.5%
- YAG 等雷射
- 355/532/633/1,064 nm 可客製
- 多雷射共用
- 藍光、半導體、光纖雷射
傾斜膜與多區濾光片
Wedge & Multi-Zone Filter
在同一片基板上改變膜厚或配置多種膜,簡化光學模組結構。
- 傾斜膜
- 截止波長隨位置連續變化
- 多區濾光片
- ND、AR、分色、金屬膜可組合
- 用途
- 醫療檢測儀器、事務機
抗菌 AR 鍍膜
Antibacterial AR Coating
在玻璃或樹脂基板上同時提供抗反射與抗菌功能,最外層可再加防指紋(AF)鍍膜。
- 抗菌效果
- 抑制金黃色葡萄球菌、大腸桿菌增殖
- 用途
- 醫療器材光學零件、觸控面板
紅外線長波通濾光片(溫度檢測・熱像儀)
| 規格 | 截止帶 (nm) | 截止帶平均穿透率 | 5% 上升點 (nm) | 50% 上升點 (nm) | 穿透帶 (nm) | 穿透帶平均穿透率 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 長波通 2.4 μm | 400–2,200 | ≤ 1% | 2,320 ± 30 | 2,400 ± 50 | 2,500–3,600 | ≥ 90% |
| 長波通 5.5 μm | 400–5,000 | ≤ 1% | 5,500 ± 400 | — | 7,500–13,500 | ≥ 75% |
| 長波通 6.6 μm | 1,500–6,400 | ≤ 1% | 6,600 ± 400 | 6,950 ± 400 | 7,500–14,000 | ≥ 80% |
精密光學薄膜產品
| 類別 | 產品 |
|---|---|
| 抗反射膜 | 寬帶 AR、低反射 AR、3 波長 AR、紫外-可見光 AR、雷射用 AR、抗菌 AR、8–14 μm 紅外 AR |
| 濾光片 | 帶通(含多帶通、深紫外、紅外)、IR Cut、UV Cut、UV-IR Cut、ND、ND+IR Cut、陷波、螢光/激發濾光片、傾斜膜 |
| 反射鏡 | 分色鏡、冷光鏡、熱光鏡、雷射反射鏡、金屬膜反射鏡(Ag、Al) |
| 分光元件 | 偏振分光鏡(PBS)、立方體無偏振分光鏡 |
| 功能膜 | ITO 透明導電膜、撥水/親水膜、防汙膜、氣體阻隔膜 |
精密光學鍍膜
針對感測器、雷射、半導體設備與醫療儀器等高規格應用,從膜系設計、成膜到量測驗證一次完成,單片即可打樣。
離子輔助蒸鍍為主
以離子輔助蒸鍍(IAD)為主力,搭配電子束蒸鍍與濺鍍。膜層緻密、附著力高,不易受水氣影響而產生特性漂移。
紫外到紅外全波段
涵蓋 250 nm 紫外至 15 μm 紅外波段,可單獨承接光學模擬與量測。
多種基板與外形
玻璃、石英、樹脂、金屬與晶體材料;平板、鏡片、稜鏡與異形件,從小口徑到大型基板。
完整量測與信賴性驗證
依 ISO 9001 品質體系管控,配備 6 台分光光度計、紅外分光光度計、雷射干涉儀,以及恆溫恆濕、冷熱衝擊測試。
代表產品與實測規格
i 線帶通濾光片(365 nm)
i-Line Bandpass Filter
上升邊陡峭、面內均勻性佳,適用於半導體曝光設備。
- 穿透率
- 約 90%
- 半高寬
- ≤ 7 nm
- 中心波長偏差
- ≤ 2 nm(Φ100 mm 範圍內)
220 nm 紫外帶通濾光片
Deep UV Bandpass Filter
採用降低紫外吸收的成膜方式,實測曲線與設計值吻合,再現性佳。
- 穿透率
- 約 90%(220 nm 附近)
- 信賴性
- 60 °C/90% RH、288 小時後波形無明顯偏移
紅外線帶通濾光片
IR Bandpass Filter for Gas Sensing
只讓特定氣體的吸收波段通過,紅外波段任意中心波長皆可設計,單片即可提案。
- 對應氣體
- CH₄、CO₂、CO、NO、SO₂、O₃、SF₆ 等
- 用途
- NDIR 氣體感測器、分析儀
雷射反射鏡
Laser Mirror
單一或多雷射波長的高反射鏡,指定觀察波長可同時穿透。
- KrF 248 nm
- 石英基板,反射率 ≥ 99.5%
- YAG 等雷射
- 355/532/633/1,064 nm 可客製
- 多雷射共用
- 藍光、半導體、光纖雷射
傾斜膜與多區濾光片
Wedge & Multi-Zone Filter
在同一片基板上改變膜厚或配置多種膜,簡化光學模組結構。
- 傾斜膜
- 截止波長隨位置連續變化
- 多區濾光片
- ND、AR、分色、金屬膜可組合
- 用途
- 醫療檢測儀器、事務機
抗菌 AR 鍍膜
Antibacterial AR Coating
在玻璃或樹脂基板上同時提供抗反射與抗菌功能,最外層可再加防指紋(AF)鍍膜。
- 抗菌效果
- 抑制金黃色葡萄球菌、大腸桿菌增殖
- 用途
- 醫療器材光學零件、觸控面板
紅外線長波通濾光片(溫度檢測・熱像儀)
| 規格 | 截止帶 (nm) | 截止帶平均穿透率 | 5% 上升點 (nm) | 50% 上升點 (nm) | 穿透帶 (nm) | 穿透帶平均穿透率 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 長波通 2.4 μm | 400–2,200 | ≤ 1% | 2,320 ± 30 | 2,400 ± 50 | 2,500–3,600 | ≥ 90% |
| 長波通 5.5 μm | 400–5,000 | ≤ 1% | 5,500 ± 400 | — | 7,500–13,500 | ≥ 75% |
| 長波通 6.6 μm | 1,500–6,400 | ≤ 1% | 6,600 ± 400 | 6,950 ± 400 | 7,500–14,000 | ≥ 80% |
精密光學薄膜產品
| 類別 | 產品 |
|---|---|
| 抗反射膜 | 寬帶 AR、低反射 AR、3 波長 AR、紫外-可見光 AR、雷射用 AR、抗菌 AR、8–14 μm 紅外 AR |
| 濾光片 | 帶通(含多帶通、深紫外、紅外)、IR Cut、UV Cut、UV-IR Cut、ND、ND+IR Cut、陷波、螢光/激發濾光片、傾斜膜 |
| 反射鏡 | 分色鏡、冷光鏡、熱光鏡、雷射反射鏡、金屬膜反射鏡(Ag、Al) |
| 分光元件 | 偏振分光鏡(PBS)、立方體無偏振分光鏡 |
| 功能膜 | ITO 透明導電膜、撥水/親水膜、防汙膜、氣體阻隔膜 |
黃光圖形化
結合光阻製程與鍍膜技術,在同一片基板上精準配置不同功能的膜層,滿足感測器、相機模組、編碼器與光通訊元件的高階需求。
鍍膜+黃光一站完成
成膜與圖形化在同一產線完成,採 Lift-off 或蝕刻製程,減少轉廠風險,縮短交期。
微米級圖形精度
以光罩對位取代傳統治具遮罩,分色膜線寬/間距最小可達 1 μm。
邊界清晰、間隙更小
圖形邊界模糊約 5 μm,傳統金屬遮罩約 100 μm,相鄰濾光區(如 RGB 帶通濾光片)可緊密排列。
多功能膜整合
同一片基板上配置多種功能膜,例如分色膜+遮光膜、反射鏡膜+吸收膜+AR 膜,簡化光學模組結構。
黃光圖形化規格
- 圖形化製程
- Lift-off(剝離)/蝕刻
- 圖形精度
- 線寬/間距最小 1 μm
- 曝光方式
- 光罩對準曝光(Mask Aligner)
- 最大基板尺寸
- Φ6 吋
- 最大基板厚度
- 25 mm(可含稜鏡)
- 介電質多層膜圖形化
- 膜厚可達 7 μm
- 作業環境
- ISO Class 1 超潔淨黃光室
黃光圖形化
結合光阻製程與鍍膜技術,在同一片基板上精準配置不同功能的膜層,滿足感測器、相機模組、編碼器與光通訊元件的高階需求。
鍍膜+黃光一站完成
成膜與圖形化在同一產線完成,採 Lift-off 或蝕刻製程,減少轉廠風險,縮短交期。
微米級圖形精度
以光罩對位取代傳統治具遮罩,分色膜線寬/間距最小可達 1 μm。
邊界清晰、間隙更小
圖形邊界模糊約 5 μm,傳統金屬遮罩約 100 μm,相鄰濾光區(如 RGB 帶通濾光片)可緊密排列。
多功能膜整合
同一片基板上配置多種功能膜,例如分色膜+遮光膜、反射鏡膜+吸收膜+AR 膜,簡化光學模組結構。
黃光圖形化規格
- 圖形化製程
- Lift-off(剝離)/蝕刻
- 圖形精度
- 線寬/間距最小 1 μm
- 曝光方式
- 光罩對準曝光(Mask Aligner)
- 最大基板尺寸
- Φ6 吋
- 最大基板厚度
- 25 mm(可含稜鏡)
- 介電質多層膜圖形化
- 膜厚可達 7 μm
- 作業環境
- ISO Class 1 超潔淨黃光室
濺鍍功能膜
高速濺鍍對工件的熱損傷極小,可在樹脂、金屬與立體形狀工件上形成均勻、緻密且附著力強的膜層。
樹脂免硬塗層
以 SiO₂ 聚合處理,壓克力等樹脂基板不需硬塗層即可鍍鋁,膠帶測試數十次不脫膜。
曲面膜厚均勻
高曲率鏡片的頂部與底部膜厚幾乎一致,反射率差異小。
耐腐蝕保護層
鋁膜加上矽氧化保護層,滴 1% KOH 溶液 10 分鐘以上無變化,量產時性能穩定。
多層干涉發色
以多層膜的光干涉效果發色,顏色選擇多,可依需求討論客製色。
濺鍍規格
- 最大工件尺寸
- W160 × L325 × H110 mm
- 樹脂基板
- PC、PET、PBT、ABS、PMMA、COP、COC
- 其他基板
- 玻璃、金屬、矽晶圓、鏡片、立體件
- 樹脂鍍鋁反射率
- 約 89–90%(400–700 nm)
- 批次穩定性
- 連續 5 批反射率幾乎無差異
可成膜材料
金屬膜
氧化膜
電磁遮蔽膜
遮蔽效果:Ag > Cu > Al > Cr > Ti
50 MHz–1 GHz 實測遮蔽效果排序;氧化物 AR 膜不具遮蔽效果。
- Al
- 50 nm 起有效,500 nm 以上更佳
- Ag、Cu
- 100 nm 即有高遮蔽效果
- Cr
- 500 nm 起明顯有效
- Ti
- 1,000 nm 有效
應用範例
濺鍍功能膜
高速濺鍍對工件的熱損傷極小,可在樹脂、金屬與立體形狀工件上形成均勻、緻密且附著力強的膜層。
樹脂免硬塗層
以 SiO₂ 聚合處理,壓克力等樹脂基板不需硬塗層即可鍍鋁,膠帶測試數十次不脫膜。
曲面膜厚均勻
高曲率鏡片的頂部與底部膜厚幾乎一致,反射率差異小。
耐腐蝕保護層
鋁膜加上矽氧化保護層,滴 1% KOH 溶液 10 分鐘以上無變化,量產時性能穩定。
多層干涉發色
以多層膜的光干涉效果發色,顏色選擇多,可依需求討論客製色。
濺鍍規格
- 最大工件尺寸
- W160 × L325 × H110 mm
- 樹脂基板
- PC、PET、PBT、ABS、PMMA、COP、COC
- 其他基板
- 玻璃、金屬、矽晶圓、鏡片、立體件
- 樹脂鍍鋁反射率
- 約 89–90%(400–700 nm)
- 批次穩定性
- 連續 5 批反射率幾乎無差異
可成膜材料
金屬膜
氧化膜
電磁遮蔽膜
遮蔽效果:Ag > Cu > Al > Cr > Ti
50 MHz–1 GHz 實測遮蔽效果排序;氧化物 AR 膜不具遮蔽效果。
- Al
- 50 nm 起有效,500 nm 以上更佳
- Ag、Cu
- 100 nm 即有高遮蔽效果
- Cr
- 500 nm 起明顯有效
- Ti
- 1,000 nm 有效
應用範例
應用領域與附加服務
從醫療、量測到半導體與雷射設備,提供鍍膜以外的前後段加工,減少轉廠與溝通成本。
應用領域
附加服務
精密洗淨、玻璃切割、研磨、邊緣塗黑、組裝與接合。從單片打樣到批量生產皆可承接;常用帶通濾光片備有現貨,可單片購買供開發測試。
應用領域與附加服務
從醫療、量測到半導體與雷射設備,提供鍍膜以外的前後段加工,減少轉廠與溝通成本。
應用領域
附加服務
精密洗淨、玻璃切割、研磨、邊緣塗黑、組裝與接合。從單片打樣到批量生產皆可承接;常用帶通濾光片備有現貨,可單片購買供開發測試。
詢價前請準備以下資訊
鍍膜報價取決於基板、膜種與規格條件。詢價時一次提供以下資訊,我們能更快評估可行性,並給您準確的報價與交期。
產品用途
產品的應用領域與使用方式,例如感測器、相機模組、雷射設備、顯示器或醫療儀器。
基板資料
材質(玻璃、石英、樹脂、矽晶圓、金屬等)、外形(平板、鏡片、稜鏡、立體件)、尺寸與厚度。
膜種與光學規格
膜種(AR、帶通、反射鏡、ITO、金屬膜等)、波長範圍、目標穿透率或反射率、入射角。有規格曲線請一併附上。
鍍膜面與圖形
單面或雙面鍍膜;如需黃光圖形化或局部鍍膜,請附圖面,標示圖形尺寸與公差。
信賴性要求
使用環境與測試條件,例如高溫高濕、冷熱衝擊、密著性、耐磨耗等。
數量
打樣數量,以及預估的量產數量或年用量。
目前階段與交期
專案目前處於開發、打樣或量產階段,以及期望的交貨時間。
基板來源與檢驗需求
基板由貴司提供或需代購;是否需要分光量測數據等檢驗資料。
詢價前請準備以下資訊
鍍膜報價取決於基板、膜種與規格條件。詢價時一次提供以下資訊,我們能更快評估可行性,並給您準確的報價與交期。
產品用途
產品的應用領域與使用方式,例如感測器、相機模組、雷射設備、顯示器或醫療儀器。
基板資料
材質(玻璃、石英、樹脂、矽晶圓、金屬等)、外形(平板、鏡片、稜鏡、立體件)、尺寸與厚度。
膜種與光學規格
膜種(AR、帶通、反射鏡、ITO、金屬膜等)、波長範圍、目標穿透率或反射率、入射角。有規格曲線請一併附上。
鍍膜面與圖形
單面或雙面鍍膜;如需黃光圖形化或局部鍍膜,請附圖面,標示圖形尺寸與公差。
信賴性要求
使用環境與測試條件,例如高溫高濕、冷熱衝擊、密著性、耐磨耗等。
數量
打樣數量,以及預估的量產數量或年用量。
目前階段與交期
專案目前處於開發、打樣或量產階段,以及期望的交貨時間。
基板來源與檢驗需求
基板由貴司提供或需代購;是否需要分光量測數據等檢驗資料。
準備好開始合作了嗎?
歡迎提供規格需求或圖面,我們將於 1 個工作天內回覆,協助評估合適的鍍膜製程與報價。
準備好開始合作了嗎?
歡迎提供規格需求或圖面,我們將於 1 個工作天內回覆,協助評估合適的鍍膜製程與報價。