Se rendre au contenu
Wafer de verre et Through Glass Via

Wafers de verre · Substrats TGVDes matériaux clés pour le packaging des puces

De l’usinage de précision des wafers de verre aux substrats TGV, conformes SEMI et conçus pour les modules RF 5G/6G, le packaging IA (CoWoS/HBM) et les capteurs MEMS, avec traitement optique intégré.

6"–12"Wafers de verre de précision
<0,5μmPrécision TTV (6")
30–150μmDiamètre des vias TGV
<6Constante diélectrique
Wafer de verre de précision / substrat TGV
Technologies clés

Quatre services technologiques clés

De l’usinage des substrats en verre aux couches fonctionnelles, des solutions complètes pour les industries des semi-conducteurs et de l’optoélectronique.

⬡

Usinage de wafers de verre

Fourniture de wafers de verre de précision de 6", 8" et 12", avec un TTV < 0,5 μm (6") et une rugosité de surface Ra < 0,3 nm, entièrement conformes aux normes SEMI de fabrication des semi-conducteurs.

◎

Substrats en verre TGV

Technologie Through Glass Via, avec des vias de 30 à 150 μm et une constante diélectrique < 6, pour les front-ends RF 5G/6G, le packaging CoWoS / HBM pour l’IA et les capteurs MEMS.

◈

Verres optiques spéciaux

Un large choix de verres optiques spéciaux : substrats porteurs ultra-fins Carrier Glass, quartz synthétique piézoélectrique et filtres de coupure IR Blue Glass.

✦

Traitement optique

Des couches fonctionnelles clés en main : traitement antireflet (AR), couches conductrices transparentes ITO/FTO, pulvérisation de métaux (Cr/Au/Al) et empilements diélectriques multicouches.
Découvrir le traitement optique et la photolithographie →

Through Glass Via

Substrats en verre TGV
Les interconnexions du packaging de nouvelle génération

Le Through Glass Via (TGV) remplace les substrats en silicium par un verre à faibles pertes, pour une meilleure isolation électrique, des pertes diélectriques réduites et une densité d’intégration plus élevée. Avec l’essor des ondes millimétriques 5G, du packaging pour le calcul haute performance IA et des capteurs MEMS, le TGV devient un matériau incontournable du packaging avancé.

Diamètre des vias
30 – 150 μm
Pas des vias
50 – 500 μm
Épaisseur du substrat
0,1 – 0,7 mm
Constante diélectrique (1 GHz)
< 6
CTE
3 – 7 ppm/°C
Applications principales
5G/6G · Packaging IA · MEMS
Substrat en verre TGV
Caractéristiques

Comparatif complet des caractéristiques

Toutes les caractéristiques techniques de l’usinage des wafers de verre et des substrats TGV, avec personnalisation sur demande.

CaractéristiqueWafer de verre 6"Wafer de verre 8"Wafer de verre 12"
Diamètre du wafer150 mm200 mm300 mm
Précision TTV< 0,5 μm< 0,8 μm< 0,8 μm
Épaisseurs usinables0,1 – 2,0 mm
Rugosité de surface (Ra)< 0,3 nm (surface polie)
Matériaux disponiblesVerre borosilicate sans alcali / Verre de quartz / Verre optique BK7 / Verres optiques spéciaux
NormesSEMI M1, M20, M78
CaractéristiqueSubstrat en verre TGVRemarques
Diamètre des vias30 – 150 μmPersonnalisable selon l’application
Pas des vias50 – 500 μmPas plus fin possible en matrice haute densité
Épaisseur du substrat0,1 – 0,7 mmUltra-fin jusqu’à 100 μm
Constante diélectrique (1 GHz)< 6Faibles pertes, supérieur aux substrats organiques
CTE3 – 7 ppm/°CProche du CTE du silicium, réduit le gauchissement
Maîtrise du gauchissementConception à très faible gauchissementAdapté aux procédés d’amincissement back-end
Applications principalesModules RF 5G · Packaging HBM pour l’IA · MEMS—
Solutions

Deux modes de collaboration

Choisissez le mode de collaboration adapté à votre application : du développement d’échantillons à la production à grande échelle, nous vous accompagnons.

Sous-traitance

Usinage à façon de wafers de verre de précision

Usinage complet de wafers de verre de précision de 6", 8" et 12", de la découpe, de la rectification et du polissage jusqu’aux couches fonctionnelles, sur toute la chaîne de procédés pour les semi-conducteurs et l’optoélectronique.

  • Très haute précision, TTV < 0,5 μm (6")
  • Rugosité de surface Ra < 0,3 nm
  • Plusieurs verres : sans alcali, quartz, BK7
  • Traitements optiques intégrés (AR/ITO/pulvérisation de métaux)
  • Des petites séries d’échantillons à la production de masse
Applications

Domaines d’application

Du packaging avancé des semi-conducteurs aux instruments d’optique de précision, pour de nombreux besoins de fabrication high-tech.

Application en 5G et packaging avancé pour l’IA

5G/6G · Packaging avancé pour l’IA

Les substrats TGV équipent les modules front-end RF à ondes millimétriques 5G (RFFE), le packaging CoWoS des accélérateurs IA et la mémoire à large bande passante (HBM). Ils répondent aux besoins d’interconnexions haute densité et de transmission à faibles pertes : un matériau clé des infrastructures de calcul IA.

Applications MEMS, optique de précision, médical et aérospatial

MEMS · Optique de précision · Médical et aérospatial

Les wafers de verre de précision sont très utilisés dans les capteurs de pression MEMS, les gyroscopes, les composants optiques d’objectifs, les instruments de diagnostic médical et les systèmes de détection aérospatiaux, avec une grande fiabilité même sous températures, pressions et vibrations extrêmes.

Verres spéciaux

Usinage de verres optiques spéciaux

Usinage sur mesure de Carrier Glass, de matériaux piézoélectriques, de Blue Glass et de nombreux verres optiques.

Matériau piézoélectrique

Composants piézoélectriques

Matériau piézoélectrique

En quartz synthétique, disponibles en coupes plane, plan-convexe et biconvexe, pour les applications à haute fiabilité dans l’aérospatial, les stations de base télécoms et les satellites.

Matériau
Quartz synthétique
Dimensions
φ4,5–φ14 mm / 1,8×3–30×30 mm
Fréquence
5 MHz (O3) – 120 MHz (O5)
Type de coupe
Plane / Plan-convexe / Biconvexe / Coupe à double rotation
Filtre de coupure IR Blue Glass

Blue Glass (filtre de coupure IR)

Filtre absorbant IR / Blue Glass

Bloque l’infrarouge au-delà de 700 nm pour un rendu fidèle des couleurs sur les capteurs CMOS ; très utilisé dans les modules photo de smartphones, les objectifs automobiles et la vidéosurveillance.

Matériau
SCHOTT BG / CDGM QB / NEG
Dimensions
77×77 mm (standard)
Épaisseur
0,11 / 0,145 / 0,21 / 0,3 mm
Longueur d’onde de coupure
Blocage IR > 700 nm
Autres verres optiques

Autres verres optiques

Grandes marques de verre optique

Découpe, rectification et polissage de précision de verres optiques des grandes marques, pour des applications allant des objectifs photo aux instruments médicaux.

SCHOTT B270 / D263T
Optique à haute transmission
JGS1 (Fused Silica)
Optique UV
Série OHARA
Photo, médical
CORNING Eagle XG
Substrats TFT-LCD
Dimensions
φ8–φ400 mm
Épaisseur
0,07–15,0 mm
Assurance qualité

Équipements de contrôle qualité

Des instruments de mesure optique professionnels garantissent que chaque substrat en verre répond aux normes de qualité les plus strictes des industries des semi-conducteurs et de l’optique.

Équipement de mesure du TTV

Mesure du TTV (variation totale d’épaisseur)

Interféromètre Zygo

Grandeur mesurée
Variation totale d’épaisseur
Précision
0,1 μm
Taille max.
D300mm
Équipement de mesure de planéité

Mesure de planéité (Warp / Bow)

Interféromètre

Grandeur mesurée
Warp / Bow
Précision
0,1 μm
Taille max.
D300mm
Équipement de mesure de rugosité de surface

Mesure de rugosité de surface

Interféromètre en lumière blanche Veeco

Grandeur mesurée
Rugosité de surface Ra
Précision
0,01 μm
Spécification
Ra ≤ 0,5 nm
Équipement de contrôle des particules

Contrôle des particules et poussières

Compteur optique de particules

Grandeur mesurée
Taille des particules en surface
Précision
0,1 μm
Applicable à
Glass Wafer / Carrier Glass

Prêt à démarrer votre projet ?

Envoyez-nous vos spécifications : nous vous répondrons sous un jour ouvré avec une solution sur mesure.