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Wafer de vidro e Through Glass Via

Wafers de vidro · Substratos TGVMateriais essenciais para o encapsulamento de chips

Do processamento de precisão de wafers de vidro aos substratos TGV, conforme as normas SEMI, para módulos de RF 5G/6G, encapsulamento para IA (CoWoS/HBM) e sensores MEMS, com revestimento óptico incluído em um único fornecedor.

6"–12"Wafers de vidro de precisão
<0,5 μmPrecisão TTV (6")
30–150μmDiâmetro do via TGV
<6Constante dielétrica
Wafer de vidro de precisão / substrato TGV
Tecnologias

Quatro serviços tecnológicos

Do processamento de substratos de vidro aos revestimentos funcionais, soluções completas para as indústrias de semicondutores e optoeletrônica.

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Processamento de wafers de vidro

Fornecimento de wafers de vidro de precisão de 6", 8" e 12", com TTV < 0,5 μm (6") e rugosidade superficial Ra < 0,3 nm, em total conformidade com as normas SEMI de fabricação de semicondutores.

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Substratos de vidro TGV

Tecnologia Through Glass Via com diâmetros de via de 30–150 μm e constante dielétrica < 6, para front-ends de RF 5G/6G, encapsulamento CoWoS / HBM para IA e sensores MEMS.

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Vidros ópticos especiais

Uma ampla variedade de vidros ópticos especiais, incluindo substratos de suporte ultrafinos Carrier Glass, quartzo sintético piezoelétrico e filtros de corte IR Blue Glass.

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Serviços de revestimento óptico

Revestimentos funcionais em um único fornecedor: antirreflexo (AR), filmes condutores transparentes ITO/FTO, sputtering metálico (Cr/Au/Al) e revestimentos dielétricos multicamadas.
Conheça o revestimento óptico e a fotolitografia →

Through Glass Via

Substratos de vidro TGV
Interconexões de encapsulamento de nova geração

O Through Glass Via (TGV) substitui os substratos tradicionais de silício por vidro de baixa perda, com melhor isolamento elétrico, menor perda dielétrica e maior densidade de integração. Com a forte demanda por 5G mmWave, encapsulamento para computação de alto desempenho em IA e sensores MEMS, o TGV está se tornando um material essencial para o encapsulamento avançado.

Diâmetro do via
30 – 150 μm
Passo entre vias
50 – 500 μm
Espessura do substrato
0,1 – 0,7 mm
Constante dielétrica (1 GHz)
< 6
CTE
3 – 7 ppm/°C
Principais aplicações
5G/6G · Encapsulamento para IA · MEMS
Substrato de vidro TGV
Especificações

Comparativo completo de especificações

Especificações técnicas completas do processamento de wafers de vidro e dos substratos TGV, com personalização sob consulta.

EspecificaçãoWafer de vidro 6"Wafer de vidro 8"Wafer de vidro 12"
Diâmetro do wafer150 mm200 mm300 mm
Precisão TTV< 0,5 μm< 0,8 μm< 0,8 μm
Espessura processável0,1 – 2,0 mm
Rugosidade superficial (Ra)< 0,3 nm (superfície polida)
Materiais disponíveisVidro borossilicato sem álcalis / Vidro de quartzo / Vidro óptico BK7 / Vidros ópticos especiais
Normas atendidasSEMI M1, M20, M78
EspecificaçãoSubstrato de vidro TGVObservações
Diâmetro do via30 – 150 μmPersonalizável conforme a aplicação
Passo entre vias50 – 500 μmPasso menor possível com matrizes de alta densidade
Espessura do substrato0,1 – 0,7 mmUltrafino, até 100 μm
Constante dielétrica (1 GHz)< 6Baixa perda, melhor que substratos orgânicos
CTE3 – 7 ppm/°CPróximo ao CTE do silício, reduz o empenamento
Controle de empenamentoProjeto de empenamento ultrabaixoAdequado a processos de afinamento no back-end
Principais aplicaçõesMódulos de RF 5G · Encapsulamento HBM para IA · MEMS—
Soluções

Dois modelos de parceria

Escolha o modelo de parceria mais adequado à sua aplicação: do desenvolvimento de amostras à produção em larga escala, atendemos todas as etapas.

Fabricação sob contrato

Processamento de wafers de vidro de precisão sob contrato

Processamento completo de wafers de vidro de precisão de 6", 8" e 12" em um único fornecedor, do corte, retificação e polimento aos revestimentos funcionais, cobrindo toda a cadeia de processos para aplicações em semicondutores e optoeletrônica.

  • Precisão altíssima, TTV < 0,5 μm (6")
  • Rugosidade superficial Ra < 0,3 nm
  • Vários tipos de vidro: sem álcalis, quartzo, BK7
  • Revestimentos ópticos integrados (AR/ITO/sputtering metálico)
  • De pequenos lotes de amostras à produção em larga escala
Aplicações

Onde é usado

Do encapsulamento avançado de semicondutores aos instrumentos ópticos de precisão, atendendo a diversas necessidades da indústria de alta tecnologia.

Aplicação em encapsulamento avançado para 5G e IA

5G/6G · Encapsulamento avançado para IA

Os substratos TGV são usados em módulos front-end de RF (RFFE) 5G mmWave, no encapsulamento CoWoS de aceleradores de IA e em memórias de alta largura de banda (HBM), atendendo às exigências de interconexões de alta densidade e transmissão de baixa perda: um material-chave para a infraestrutura de computação de IA.

Aplicações em MEMS, óptica de precisão, área médica e aeroespacial

MEMS · Óptica de precisão · Médica e aeroespacial

Os wafers de vidro de precisão são muito usados em sensores de pressão MEMS, giroscópios, componentes ópticos de câmeras, equipamentos de diagnóstico médico e sistemas de sensoriamento aeroespacial, mantendo alta confiabilidade mesmo sob calor, pressão e vibração extremos.

Vidros especiais

Processamento de vidros ópticos especiais

Processamento sob medida de Carrier Glass, materiais piezoelétricos, Blue Glass e uma ampla variedade de vidros ópticos.

Material piezoelétrico

Componentes piezoelétricos

Material piezoelétrico

Feitos de quartzo sintético, nos cortes plano, plano-convexo e biconvexo, adequados a aplicações de alta confiabilidade no setor aeroespacial, em estações rádio base de telecomunicações e em satélites.

Material
Quartzo sintético
Tamanho
φ4,5–φ14 mm / 1,8×3–30×30 mm
Frequência
5 MHz (O3) – 120 MHz (O5)
Tipo de corte
Plano / Plano-convexo / Biconvexo / Corte de dupla rotação
Filtro de corte IR Blue Glass

Blue Glass (filtro de corte IR)

Filtro absorvedor de IR / Blue Glass

Bloqueia o infravermelho acima de 700 nm para garantir a reprodução fiel das cores em sensores CMOS; muito usado em módulos de câmera de smartphones, lentes automotivas e câmeras de segurança.

Material
SCHOTT BG / CDGM QB / NEG
Tamanho
77×77 mm (padrão)
Espessura
0,11 / 0,145 / 0,21 / 0,3 mm
Comprimento de onda de corte
Bloqueio de IR >700 nm
Outros vidros ópticos

Outros vidros ópticos

Outros vidros ópticos

Corte, retificação e polimento de precisão de vidros ópticos das principais marcas, para aplicações que vão de lentes de câmeras a instrumentos médicos.

SCHOTT B270 / D263T
Óptica de alta transmissão
JGS1 (Fused Silica)
Óptica UV
Série OHARA
Câmeras, área médica
CORNING Eagle XG
Substratos TFT-LCD
Tamanho
φ8–φ400 mm
Espessura
0,07–15,0 mm
Garantia de qualidade

Equipamentos de inspeção de qualidade

Instrumentos profissionais de medição óptica garantem que cada substrato de vidro atenda aos padrões de qualidade mais rigorosos das indústrias de semicondutores e óptica.

Equipamento de medição de TTV

Medição de TTV (variação total de espessura)

Interferômetro Zygo

Medição
Variação total de espessura
Precisão
0,1 μm
Tamanho máximo
D300mm
Equipamento de medição de planicidade

Medição de planicidade (Warp / Bow)

Interferômetro

Medição
Warp / Bow
Precisão
0,1 μm
Tamanho máximo
D300mm
Equipamento de medição de rugosidade superficial

Medição de rugosidade superficial

Interferômetro de luz branca Veeco

Medição
Rugosidade superficial Ra
Precisão
0,01 μm
Especificação
Ra ≤ 0,5 nm
Equipamento de inspeção de partículas

Inspeção de partículas e poeira

Contador óptico de partículas

Medição
Tamanho das partículas na superfície
Precisão
0,1 μm
Aplicável a
Glass Wafer / Carrier Glass

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