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Glaswafer & Through Glass Via

Glaswafer · TGV-SubstrateSchlüsselmaterialien für das Chip-Packaging

Von der Präzisionsbearbeitung von Glaswafern bis zu TGV-Substraten, SEMI-konform und ausgelegt für 5G/6G-HF-Module, KI-Packaging (CoWoS/HBM) und MEMS-Sensoren – optische Beschichtung aus einer Hand inklusive.

6"–12"Präzisions-Glaswafer
<0,5 μmTTV-Genauigkeit (6")
30–150μmTGV-Lochdurchmesser
<6Dielektrizitätskonstante
Präzisions-Glaswafer / TGV-Substrat
Kerntechnologie

Vier technologische Kernleistungen

Von der Bearbeitung von Glassubstraten bis zu Funktionsbeschichtungen – Komplettlösungen für die Halbleiter- und Optoelektronikindustrie.

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Glaswafer-Bearbeitung

Präzisions-Glaswafer in 6", 8" und 12" mit TTV < 0,5 μm (6") und Oberflächenrauheit Ra < 0,3 nm, vollständig konform mit den SEMI-Standards der Halbleiterfertigung.

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TGV-Glassubstrate

Through-Glass-Via-Technologie mit Lochdurchmessern von 30–150 μm und einer Dielektrizitätskonstante < 6 – für 5G/6G-HF-Frontends, KI-Packaging (CoWoS / HBM) und MEMS-Sensoren.

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Optische Spezialgläser

Ein breites Spektrum optischer Spezialgläser, darunter ultradünne Carrier Glass-Trägersubstrate, piezoelektrischer synthetischer Quarz und Blue Glass-IR-Sperrfilter.

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Optische Beschichtung

Funktionsbeschichtungen aus einer Hand: Antireflexbeschichtungen (AR), transparente leitfähige ITO/FTO-Schichten, Metall-Sputtern (Cr/Au/Al) und dielektrische Mehrschichtsysteme.
Optische Beschichtung und Fotolithografie entdecken →

Through Glass Via

TGV-Glassubstrate
Verbindungstechnik für das Packaging der nächsten Generation

Through Glass Via (TGV) ersetzt herkömmliche Siliziumsubstrate durch verlustarmes Glas – mit besserer elektrischer Isolation, geringeren dielektrischen Verlusten und höherer Integrationsdichte. Mit der stark steigenden Nachfrage nach 5G-mmWave, Packaging für KI-Hochleistungsrechner und MEMS-Sensoren wird TGV zu einem unverzichtbaren Material für Advanced Packaging.

Lochdurchmesser
30 – 150 μm
Lochabstand
50 – 500 μm
Substratstärke
0,1 – 0,7 mm
Dielektrizitätskonstante (1 GHz)
< 6
CTE
3 – 7 ppm/°C
Hauptanwendungen
5G/6G · KI-Packaging · MEMS
TGV-Glassubstrat
Technische Daten

Spezifikationen im Vergleich

Vollständige technische Daten für die Glaswafer-Bearbeitung und TGV-Substrate; individuelle Anpassungen auf Anfrage.

MerkmalGlaswafer 6"Glaswafer 8"Glaswafer 12"
Waferdurchmesser150 mm200 mm300 mm
TTV-Genauigkeit< 0,5 μm< 0,8 μm< 0,8 μm
Bearbeitbare Stärke0,1 – 2,0 mm
Oberflächenrauheit (Ra)< 0,3 nm (polierte Oberfläche)
Verfügbare MaterialienAlkalifreies Borosilikatglas / Quarzglas / optisches Glas BK7 / optische Spezialgläser
NormenSEMI M1, M20, M78
MerkmalTGV-GlassubstratHinweise
Lochdurchmesser30 – 150 μmJe nach Anwendung anpassbar
Lochabstand50 – 500 μmKleinerer Abstand mit hochdichten Arrays möglich
Substratstärke0,1 – 0,7 mmUltradünn bis 100 μm
Dielektrizitätskonstante (1 GHz)< 6Verlustarm, besser als organische Substrate
CTE3 – 7 ppm/°CNahe am CTE von Silizium, weniger Verzug
VerzugskontrolleDesign mit sehr geringem VerzugGeeignet für Dünnungsprozesse im Back-End
Hauptanwendungen5G-HF-Module · KI-HBM-Packaging · MEMS—
Lösungen

Zwei Kooperationsmodelle

Wählen Sie das Kooperationsmodell, das am besten zu Ihrer Anwendung passt – von der Musterentwicklung bis zur Serienfertigung unterstützen wir Sie.

Lohnfertigung

Lohnbearbeitung von Präzisions-Glaswafern

Bearbeitung von Präzisions-Glaswafern in 6", 8" und 12" aus einer Hand – vom Trennen, Schleifen und Polieren bis zur Funktionsbeschichtung – über die gesamte Prozesskette für Halbleiter- und Optoelektronikanwendungen.

  • Höchste Präzision, TTV < 0,5 μm (6")
  • Oberflächenrauheit Ra < 0,3 nm
  • Verschiedene Glasmaterialien: alkalifrei, Quarz, BK7
  • Integrierte optische Beschichtungen (AR/ITO/Metall-Sputtern)
  • Von Kleinserienmustern bis zur Serienfertigung
Anwendungen

Einsatzbereiche

Vom Advanced Packaging für Halbleiter bis zu optischen Präzisionsinstrumenten – für vielfältige Anforderungen der Hightech-Fertigung.

Anwendung in 5G und KI-Advanced-Packaging

5G/6G · KI-Advanced-Packaging

TGV-Substrate kommen in 5G-mmWave-HF-Frontend-Modulen (RFFE), im CoWoS-Packaging für KI-Beschleuniger und in High-Bandwidth-Memory (HBM) zum Einsatz und erfüllen die Anforderungen an hochdichte Verbindungen und verlustarme Übertragung – ein Schlüsselmaterial für die KI-Recheninfrastruktur.

Anwendungen in MEMS, Präzisionsoptik, Medizin und Luft- und Raumfahrt

MEMS · Präzisionsoptik · Medizin & Luft- und Raumfahrt

Präzisions-Glaswafer werden vielfach in MEMS-Drucksensoren, Gyroskopen, optischen Komponenten für Kameraobjektive, medizinischen Diagnosegeräten und Sensorsystemen der Luft- und Raumfahrt eingesetzt – mit hoher Zuverlässigkeit auch bei extremer Hitze, Druck und Vibration.

Spezialglas

Bearbeitung optischer Spezialgläser

Individuelle Bearbeitung von Carrier Glass, piezoelektrischen Materialien, Blue Glass und vielen weiteren optischen Gläsern.

Piezoelektrisches Material

Piezoelektrische Komponenten

Piezoelektrisches Material

Aus synthetischem Quarz gefertigt und in den Schliffformen plan, plankonvex und bikonvex erhältlich – für hochzuverlässige Anwendungen in Luft- und Raumfahrt, Mobilfunk-Basisstationen und Satelliten.

Material
Synthetischer Quarz
Größe
φ4,5–φ14 mm / 1,8×3–30×30 mm
Frequenz
5 MHz (O3) – 120 MHz (O5)
Schnittart
Plan / Plankonvex / Bikonvex / Doppelt gedrehter Schnitt
Blue Glass-IR-Sperrfilter

Blue Glass (IR-Sperrfilter)

IR-Absorptionsfilter / Blue Glass

Sperrt Infrarotlicht oberhalb von 700 nm und sorgt so für eine exakte Farbwiedergabe auf CMOS-Sensoren – vielfach eingesetzt in Smartphone-Kameramodulen, Fahrzeugobjektiven und Überwachungskameras.

Material
SCHOTT BG / CDGM QB / NEG
Größe
77×77 mm (Standard)
Stärke
0,11 / 0,145 / 0,21 / 0,3 mm
Grenzwellenlänge
>700 nm IR-Sperre
Weitere optische Gläser

Weitere optische Gläser

Weitere optische Gläser

Präzisionstrennen, -schleifen und -polieren optischer Gläser mehrerer führender Marken – für Anwendungen von Kameraobjektiven bis zu medizinischen Geräten.

SCHOTT B270 / D263T
Hochtransmissive Optik
JGS1 (Fused Silica)
UV-Optik
OHARA-Serie
Kamera, Medizin
CORNING Eagle XG
TFT-LCD-Substrate
Größe
φ8–φ400 mm
Stärke
0,07–15,0 mm
Qualitätssicherung

Prüfgeräte für die Qualitätskontrolle

Ausgestattet mit professionellen optischen Messgeräten, damit jedes Glassubstrat die strengsten Qualitätsstandards der Halbleiter- und Optikindustrie erfüllt.

TTV-Messgerät

TTV-Messung (Total Thickness Variation)

Zygo-Interferometer

Messgröße
Gesamtdickenschwankung (TTV)
Genauigkeit
0,1 μm
Max. Größe
D300mm
Messgerät für die Ebenheit

Ebenheitsmessung (Warp / Bow)

Interferometer

Messgröße
Warp / Bow
Genauigkeit
0,1 μm
Max. Größe
D300mm
Messgerät für die Oberflächenrauheit

Messung der Oberflächenrauheit

Veeco-Weißlichtinterferometer

Messgröße
Oberflächenrauheit Ra
Genauigkeit
0,01 μm
Spezifikation
Ra ≤ 0,5 nm
Partikelprüfgerät

Partikel- & Staubprüfung

Optischer Partikelzähler

Messgröße
Partikelgröße auf der Oberfläche
Genauigkeit
0,1 μm
Anwendbar für
Glass Wafer / Carrier Glass

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