Glaswafer · TGV-SubstrateSchlüsselmaterialien für das Chip-Packaging
Von der Präzisionsbearbeitung von Glaswafern bis zu TGV-Substraten, SEMI-konform und ausgelegt für 5G/6G-HF-Module, KI-Packaging (CoWoS/HBM) und MEMS-Sensoren – optische Beschichtung aus einer Hand inklusive.
Glaswafer · TGV-SubstrateSchlüsselmaterialien für das Chip-Packaging
Von der Präzisionsbearbeitung von Glaswafern bis zu TGV-Substraten, SEMI-konform und ausgelegt für 5G/6G-HF-Module, KI-Packaging (CoWoS/HBM) und MEMS-Sensoren – optische Beschichtung aus einer Hand inklusive.
Vier technologische Kernleistungen
Von der Bearbeitung von Glassubstraten bis zu Funktionsbeschichtungen – Komplettlösungen für die Halbleiter- und Optoelektronikindustrie.
Glaswafer-Bearbeitung
Präzisions-Glaswafer in 6", 8" und 12" mit TTV < 0,5 μm (6") und Oberflächenrauheit Ra < 0,3 nm, vollständig konform mit den SEMI-Standards der Halbleiterfertigung.
TGV-Glassubstrate
Through-Glass-Via-Technologie mit Lochdurchmessern von 30–150 μm und einer Dielektrizitätskonstante < 6 – für 5G/6G-HF-Frontends, KI-Packaging (CoWoS / HBM) und MEMS-Sensoren.
Optische Spezialgläser
Ein breites Spektrum optischer Spezialgläser, darunter ultradünne Carrier Glass-Trägersubstrate, piezoelektrischer synthetischer Quarz und Blue Glass-IR-Sperrfilter.
Optische Beschichtung
Funktionsbeschichtungen aus einer Hand: Antireflexbeschichtungen (AR), transparente leitfähige ITO/FTO-Schichten, Metall-Sputtern (Cr/Au/Al) und dielektrische Mehrschichtsysteme.
Optische Beschichtung und Fotolithografie entdecken →
Vier technologische Kernleistungen
Von der Bearbeitung von Glassubstraten bis zu Funktionsbeschichtungen – Komplettlösungen für die Halbleiter- und Optoelektronikindustrie.
Glaswafer-Bearbeitung
Präzisions-Glaswafer in 6", 8" und 12" mit TTV < 0,5 μm (6") und Oberflächenrauheit Ra < 0,3 nm, vollständig konform mit den SEMI-Standards der Halbleiterfertigung.
TGV-Glassubstrate
Through-Glass-Via-Technologie mit Lochdurchmessern von 30–150 μm und einer Dielektrizitätskonstante < 6 – für 5G/6G-HF-Frontends, KI-Packaging (CoWoS / HBM) und MEMS-Sensoren.
Optische Spezialgläser
Ein breites Spektrum optischer Spezialgläser, darunter ultradünne Carrier Glass-Trägersubstrate, piezoelektrischer synthetischer Quarz und Blue Glass-IR-Sperrfilter.
Optische Beschichtung
Funktionsbeschichtungen aus einer Hand: Antireflexbeschichtungen (AR), transparente leitfähige ITO/FTO-Schichten, Metall-Sputtern (Cr/Au/Al) und dielektrische Mehrschichtsysteme.
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TGV-Glassubstrate
Verbindungstechnik für das Packaging der nächsten Generation
Through Glass Via (TGV) ersetzt herkömmliche Siliziumsubstrate durch verlustarmes Glas – mit besserer elektrischer Isolation, geringeren dielektrischen Verlusten und höherer Integrationsdichte. Mit der stark steigenden Nachfrage nach 5G-mmWave, Packaging für KI-Hochleistungsrechner und MEMS-Sensoren wird TGV zu einem unverzichtbaren Material für Advanced Packaging.
- Lochdurchmesser
- 30 – 150 μm
- Lochabstand
- 50 – 500 μm
- Substratstärke
- 0,1 – 0,7 mm
- Dielektrizitätskonstante (1 GHz)
- < 6
- CTE
- 3 – 7 ppm/°C
- Hauptanwendungen
- 5G/6G · KI-Packaging · MEMS
TGV-Glassubstrate
Verbindungstechnik für das Packaging der nächsten Generation
Through Glass Via (TGV) ersetzt herkömmliche Siliziumsubstrate durch verlustarmes Glas – mit besserer elektrischer Isolation, geringeren dielektrischen Verlusten und höherer Integrationsdichte. Mit der stark steigenden Nachfrage nach 5G-mmWave, Packaging für KI-Hochleistungsrechner und MEMS-Sensoren wird TGV zu einem unverzichtbaren Material für Advanced Packaging.
- Lochdurchmesser
- 30 – 150 μm
- Lochabstand
- 50 – 500 μm
- Substratstärke
- 0,1 – 0,7 mm
- Dielektrizitätskonstante (1 GHz)
- < 6
- CTE
- 3 – 7 ppm/°C
- Hauptanwendungen
- 5G/6G · KI-Packaging · MEMS
Spezifikationen im Vergleich
Vollständige technische Daten für die Glaswafer-Bearbeitung und TGV-Substrate; individuelle Anpassungen auf Anfrage.
| Merkmal | Glaswafer 6" | Glaswafer 8" | Glaswafer 12" |
|---|---|---|---|
| Waferdurchmesser | 150 mm | 200 mm | 300 mm |
| TTV-Genauigkeit | < 0,5 μm | < 0,8 μm | < 0,8 μm |
| Bearbeitbare Stärke | 0,1 – 2,0 mm | ||
| Oberflächenrauheit (Ra) | < 0,3 nm (polierte Oberfläche) | ||
| Verfügbare Materialien | Alkalifreies Borosilikatglas / Quarzglas / optisches Glas BK7 / optische Spezialgläser | ||
| Normen | SEMI M1, M20, M78 | ||
| Merkmal | TGV-Glassubstrat | Hinweise |
|---|---|---|
| Lochdurchmesser | 30 – 150 μm | Je nach Anwendung anpassbar |
| Lochabstand | 50 – 500 μm | Kleinerer Abstand mit hochdichten Arrays möglich |
| Substratstärke | 0,1 – 0,7 mm | Ultradünn bis 100 μm |
| Dielektrizitätskonstante (1 GHz) | < 6 | Verlustarm, besser als organische Substrate |
| CTE | 3 – 7 ppm/°C | Nahe am CTE von Silizium, weniger Verzug |
| Verzugskontrolle | Design mit sehr geringem Verzug | Geeignet für Dünnungsprozesse im Back-End |
| Hauptanwendungen | 5G-HF-Module · KI-HBM-Packaging · MEMS | — |
Spezifikationen im Vergleich
Vollständige technische Daten für die Glaswafer-Bearbeitung und TGV-Substrate; individuelle Anpassungen auf Anfrage.
| Merkmal | Glaswafer 6" | Glaswafer 8" | Glaswafer 12" |
|---|---|---|---|
| Waferdurchmesser | 150 mm | 200 mm | 300 mm |
| TTV-Genauigkeit | < 0,5 μm | < 0,8 μm | < 0,8 μm |
| Bearbeitbare Stärke | 0,1 – 2,0 mm | ||
| Oberflächenrauheit (Ra) | < 0,3 nm (polierte Oberfläche) | ||
| Verfügbare Materialien | Alkalifreies Borosilikatglas / Quarzglas / optisches Glas BK7 / optische Spezialgläser | ||
| Normen | SEMI M1, M20, M78 | ||
| Merkmal | TGV-Glassubstrat | Hinweise |
|---|---|---|
| Lochdurchmesser | 30 – 150 μm | Je nach Anwendung anpassbar |
| Lochabstand | 50 – 500 μm | Kleinerer Abstand mit hochdichten Arrays möglich |
| Substratstärke | 0,1 – 0,7 mm | Ultradünn bis 100 μm |
| Dielektrizitätskonstante (1 GHz) | < 6 | Verlustarm, besser als organische Substrate |
| CTE | 3 – 7 ppm/°C | Nahe am CTE von Silizium, weniger Verzug |
| Verzugskontrolle | Design mit sehr geringem Verzug | Geeignet für Dünnungsprozesse im Back-End |
| Hauptanwendungen | 5G-HF-Module · KI-HBM-Packaging · MEMS | — |
Zwei Kooperationsmodelle
Wählen Sie das Kooperationsmodell, das am besten zu Ihrer Anwendung passt – von der Musterentwicklung bis zur Serienfertigung unterstützen wir Sie.
TGV-Glassubstrate – individuelle Entwicklung
Designentwicklung und Serienlieferung von TGV-Substraten für High-End-Anwendungen wie 5G/6G-HF-Module, KI-Packaging (CoWoS/HBM) und MEMS-Sensoren.
- Lochdurchmesser von 30–150 μm frei wählbar
- Verlustarme Dielektrizitätskonstante < 6
- Sehr geringer Verzug, dünnbar bis 100 μm
- Kompatibel mit den Anforderungen an KI-Packaging (CoWoS / HBM)
- SEMI-konform, mit vollständiger Dokumentation
Lohnbearbeitung von Präzisions-Glaswafern
Bearbeitung von Präzisions-Glaswafern in 6", 8" und 12" aus einer Hand – vom Trennen, Schleifen und Polieren bis zur Funktionsbeschichtung – über die gesamte Prozesskette für Halbleiter- und Optoelektronikanwendungen.
- Höchste Präzision, TTV < 0,5 μm (6")
- Oberflächenrauheit Ra < 0,3 nm
- Verschiedene Glasmaterialien: alkalifrei, Quarz, BK7
- Integrierte optische Beschichtungen (AR/ITO/Metall-Sputtern)
- Von Kleinserienmustern bis zur Serienfertigung
Zwei Kooperationsmodelle
Wählen Sie das Kooperationsmodell, das am besten zu Ihrer Anwendung passt – von der Musterentwicklung bis zur Serienfertigung unterstützen wir Sie.
TGV-Glassubstrate – individuelle Entwicklung
Designentwicklung und Serienlieferung von TGV-Substraten für High-End-Anwendungen wie 5G/6G-HF-Module, KI-Packaging (CoWoS/HBM) und MEMS-Sensoren.
- Lochdurchmesser von 30–150 μm frei wählbar
- Verlustarme Dielektrizitätskonstante < 6
- Sehr geringer Verzug, dünnbar bis 100 μm
- Kompatibel mit den Anforderungen an KI-Packaging (CoWoS / HBM)
- SEMI-konform, mit vollständiger Dokumentation
Lohnbearbeitung von Präzisions-Glaswafern
Bearbeitung von Präzisions-Glaswafern in 6", 8" und 12" aus einer Hand – vom Trennen, Schleifen und Polieren bis zur Funktionsbeschichtung – über die gesamte Prozesskette für Halbleiter- und Optoelektronikanwendungen.
- Höchste Präzision, TTV < 0,5 μm (6")
- Oberflächenrauheit Ra < 0,3 nm
- Verschiedene Glasmaterialien: alkalifrei, Quarz, BK7
- Integrierte optische Beschichtungen (AR/ITO/Metall-Sputtern)
- Von Kleinserienmustern bis zur Serienfertigung
Einsatzbereiche
Vom Advanced Packaging für Halbleiter bis zu optischen Präzisionsinstrumenten – für vielfältige Anforderungen der Hightech-Fertigung.

5G/6G · KI-Advanced-Packaging
TGV-Substrate kommen in 5G-mmWave-HF-Frontend-Modulen (RFFE), im CoWoS-Packaging für KI-Beschleuniger und in High-Bandwidth-Memory (HBM) zum Einsatz und erfüllen die Anforderungen an hochdichte Verbindungen und verlustarme Übertragung – ein Schlüsselmaterial für die KI-Recheninfrastruktur.

MEMS · Präzisionsoptik · Medizin & Luft- und Raumfahrt
Präzisions-Glaswafer werden vielfach in MEMS-Drucksensoren, Gyroskopen, optischen Komponenten für Kameraobjektive, medizinischen Diagnosegeräten und Sensorsystemen der Luft- und Raumfahrt eingesetzt – mit hoher Zuverlässigkeit auch bei extremer Hitze, Druck und Vibration.
Einsatzbereiche
Vom Advanced Packaging für Halbleiter bis zu optischen Präzisionsinstrumenten – für vielfältige Anforderungen der Hightech-Fertigung.

5G/6G · KI-Advanced-Packaging
TGV-Substrate kommen in 5G-mmWave-HF-Frontend-Modulen (RFFE), im CoWoS-Packaging für KI-Beschleuniger und in High-Bandwidth-Memory (HBM) zum Einsatz und erfüllen die Anforderungen an hochdichte Verbindungen und verlustarme Übertragung – ein Schlüsselmaterial für die KI-Recheninfrastruktur.

MEMS · Präzisionsoptik · Medizin & Luft- und Raumfahrt
Präzisions-Glaswafer werden vielfach in MEMS-Drucksensoren, Gyroskopen, optischen Komponenten für Kameraobjektive, medizinischen Diagnosegeräten und Sensorsystemen der Luft- und Raumfahrt eingesetzt – mit hoher Zuverlässigkeit auch bei extremer Hitze, Druck und Vibration.
Bearbeitung optischer Spezialgläser
Individuelle Bearbeitung von Carrier Glass, piezoelektrischen Materialien, Blue Glass und vielen weiteren optischen Gläsern.

Carrier Glass
Glas-Trägerwafer für das Handling dünner Wafer
Stützt ultradünne Wafer (≤150 μm) beim Dünnen, Beschichten und Ätzen und verhindert Bruch – anschließend reinigbar und wiederverwendbar, was die Produktionskosten senkt.
- Verfügbare Größen
- 6" / 8" / 12"
- Material
- Quarzglas (Fused Silica) / BF33
- Stärke
- 500 μm – 775 μm
- TTV
- ≤1 μm (Premium) / ≤2 μm
- Oberfläche
- DSP, beidseitig poliert, Ra ≤0,5 nm
- Temperaturbeständigkeit
- Quarzglas (Fused Silica) >1000 °C

Piezoelektrische Komponenten
Piezoelektrisches Material
Aus synthetischem Quarz gefertigt und in den Schliffformen plan, plankonvex und bikonvex erhältlich – für hochzuverlässige Anwendungen in Luft- und Raumfahrt, Mobilfunk-Basisstationen und Satelliten.
- Material
- Synthetischer Quarz
- Größe
- φ4,5–φ14 mm / 1,8×3–30×30 mm
- Frequenz
- 5 MHz (O3) – 120 MHz (O5)
- Schnittart
- Plan / Plankonvex / Bikonvex / Doppelt gedrehter Schnitt

Blue Glass (IR-Sperrfilter)
IR-Absorptionsfilter / Blue Glass
Sperrt Infrarotlicht oberhalb von 700 nm und sorgt so für eine exakte Farbwiedergabe auf CMOS-Sensoren – vielfach eingesetzt in Smartphone-Kameramodulen, Fahrzeugobjektiven und Überwachungskameras.
- Material
- SCHOTT BG / CDGM QB / NEG
- Größe
- 77×77 mm (Standard)
- Stärke
- 0,11 / 0,145 / 0,21 / 0,3 mm
- Grenzwellenlänge
- >700 nm IR-Sperre

Weitere optische Gläser
Weitere optische Gläser
Präzisionstrennen, -schleifen und -polieren optischer Gläser mehrerer führender Marken – für Anwendungen von Kameraobjektiven bis zu medizinischen Geräten.
- SCHOTT B270 / D263T
- Hochtransmissive Optik
- JGS1 (Fused Silica)
- UV-Optik
- OHARA-Serie
- Kamera, Medizin
- CORNING Eagle XG
- TFT-LCD-Substrate
- Größe
- φ8–φ400 mm
- Stärke
- 0,07–15,0 mm
Bearbeitung optischer Spezialgläser
Individuelle Bearbeitung von Carrier Glass, piezoelektrischen Materialien, Blue Glass und vielen weiteren optischen Gläsern.

Carrier Glass
Glas-Trägerwafer für das Handling dünner Wafer
Stützt ultradünne Wafer (≤150 μm) beim Dünnen, Beschichten und Ätzen und verhindert Bruch – anschließend reinigbar und wiederverwendbar, was die Produktionskosten senkt.
- Verfügbare Größen
- 6" / 8" / 12"
- Material
- Quarzglas (Fused Silica) / BF33
- Stärke
- 500 μm – 775 μm
- TTV
- ≤1 μm (Premium) / ≤2 μm
- Oberfläche
- DSP, beidseitig poliert, Ra ≤0,5 nm
- Temperaturbeständigkeit
- Quarzglas (Fused Silica) >1000 °C

Piezoelektrische Komponenten
Piezoelektrisches Material
Aus synthetischem Quarz gefertigt und in den Schliffformen plan, plankonvex und bikonvex erhältlich – für hochzuverlässige Anwendungen in Luft- und Raumfahrt, Mobilfunk-Basisstationen und Satelliten.
- Material
- Synthetischer Quarz
- Größe
- φ4,5–φ14 mm / 1,8×3–30×30 mm
- Frequenz
- 5 MHz (O3) – 120 MHz (O5)
- Schnittart
- Plan / Plankonvex / Bikonvex / Doppelt gedrehter Schnitt

Blue Glass (IR-Sperrfilter)
IR-Absorptionsfilter / Blue Glass
Sperrt Infrarotlicht oberhalb von 700 nm und sorgt so für eine exakte Farbwiedergabe auf CMOS-Sensoren – vielfach eingesetzt in Smartphone-Kameramodulen, Fahrzeugobjektiven und Überwachungskameras.
- Material
- SCHOTT BG / CDGM QB / NEG
- Größe
- 77×77 mm (Standard)
- Stärke
- 0,11 / 0,145 / 0,21 / 0,3 mm
- Grenzwellenlänge
- >700 nm IR-Sperre

Weitere optische Gläser
Weitere optische Gläser
Präzisionstrennen, -schleifen und -polieren optischer Gläser mehrerer führender Marken – für Anwendungen von Kameraobjektiven bis zu medizinischen Geräten.
- SCHOTT B270 / D263T
- Hochtransmissive Optik
- JGS1 (Fused Silica)
- UV-Optik
- OHARA-Serie
- Kamera, Medizin
- CORNING Eagle XG
- TFT-LCD-Substrate
- Größe
- φ8–φ400 mm
- Stärke
- 0,07–15,0 mm
Prüfgeräte für die Qualitätskontrolle
Ausgestattet mit professionellen optischen Messgeräten, damit jedes Glassubstrat die strengsten Qualitätsstandards der Halbleiter- und Optikindustrie erfüllt.

TTV-Messung (Total Thickness Variation)
Zygo-Interferometer
- Messgröße
- Gesamtdickenschwankung (TTV)
- Genauigkeit
- 0,1 μm
- Max. Größe
- D300mm

Ebenheitsmessung (Warp / Bow)
Interferometer
- Messgröße
- Warp / Bow
- Genauigkeit
- 0,1 μm
- Max. Größe
- D300mm

Messung der Oberflächenrauheit
Veeco-Weißlichtinterferometer
- Messgröße
- Oberflächenrauheit Ra
- Genauigkeit
- 0,01 μm
- Spezifikation
- Ra ≤ 0,5 nm

Partikel- & Staubprüfung
Optischer Partikelzähler
- Messgröße
- Partikelgröße auf der Oberfläche
- Genauigkeit
- 0,1 μm
- Anwendbar für
- Glass Wafer / Carrier Glass
Prüfgeräte für die Qualitätskontrolle
Ausgestattet mit professionellen optischen Messgeräten, damit jedes Glassubstrat die strengsten Qualitätsstandards der Halbleiter- und Optikindustrie erfüllt.

TTV-Messung (Total Thickness Variation)
Zygo-Interferometer
- Messgröße
- Gesamtdickenschwankung (TTV)
- Genauigkeit
- 0,1 μm
- Max. Größe
- D300mm

Ebenheitsmessung (Warp / Bow)
Interferometer
- Messgröße
- Warp / Bow
- Genauigkeit
- 0,1 μm
- Max. Größe
- D300mm

Messung der Oberflächenrauheit
Veeco-Weißlichtinterferometer
- Messgröße
- Oberflächenrauheit Ra
- Genauigkeit
- 0,01 μm
- Spezifikation
- Ra ≤ 0,5 nm

Partikel- & Staubprüfung
Optischer Partikelzähler
- Messgröße
- Partikelgröße auf der Oberfläche
- Genauigkeit
- 0,1 μm
- Anwendbar für
- Glass Wafer / Carrier Glass
Bereit für Ihr Projekt?
Senden Sie uns Ihre Anforderungen – wir antworten innerhalb eines Werktages mit einer individuellen Lösung.
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