Optische Beschichtung & Fotolithografie

Optische Beschichtung & FotolithografieVon der Serienfertigung bis zur präzisen Sonderanfertigung

Von Standard-Funktionsbeschichtungen auf Glassubstraten über optische Präzisionsfilter von UV bis IR und fotolithografische Strukturen im Mikrometerbereich bis zu gesputterten Funktionsschichten auf Kunststoff und 3D-Bauteilen: Wir wählen das passende Beschichtungsverfahren für Ihre Spezifikationen und Stückzahlen.

250nm–15μmWellenlängenbereich UV bis IR

1μmStrukturgenauigkeit

ISO Class 1Reinraum für Fotolithografie

Ab 1 StückVom Muster bis zur Serie

Kontakt Beschichtungslösungen ansehen

Vakuum-Beschichtungsanlagen für optische Schichten im Reinraum

Beschichtungslösungen

Die passende Beschichtungslösung wählen

Jedes Produkt stellt andere Anforderungen an Spezifikation, Stückzahl und Kosten. Wir bieten je nach Anwendung drei Beschichtungslösungen an, damit jedes Projekt mit dem richtigen Verfahren umgesetzt wird.

Standardbeschichtung

Standard-Funktionsbeschichtung

Stabile Serienfertigung mit Fokus auf Kosten. Für Beschichtungen auf Glassubstraten mit festgelegten Spezifikationen und hohem Liefervolumen.

Antireflexbeschichtung (AR)
Transparente leitfähige ITO- / FTO-Schicht
Metall-Sputtern (Cr / Au / Al)
Dielektrische Mehrschichtbeschichtung

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Optische Präzisionsbeschichtung

Enge optische Toleranzen, vom Muster bis zur Serie. Für optische Komponenten und Sensoranwendungen mit strengen Anforderungen an Wellenlänge, Transmission und Homogenität.

Bandpassfilter von UV bis IR
Laserspiegel und dichroitische Spiegel
Keilfilter und Mehrzonenfilter
Fotolithografische Strukturen im Mikrometerbereich

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Sputterbeschichtung

Gesputterte Funktionsschichten

Abscheidung bei niedriger Temperatur mit hoher Haftung. Für Kunststoff-, Metall- und 3D-Bauteile, die Funktion und Optik vereinen sollen.

Aluminiumspiegel auf Kunststoff
EMV-Abschirmschichten
Dekor- und Farbschichten
Korrosionsbeständige Schutzschichten

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Standardbeschichtung

Standard-Funktionsbeschichtung

Verschiedene Beschichtungsverfahren für unterschiedliche Funktionen, die die optischen und elektrischen Eigenschaften von Glassubstraten verbessern.

Optisch

Antireflexbeschichtung (AR)

Senkt die Oberflächenreflexion auf < 0,5 % und erhöht die Lichtdurchlässigkeit deutlich. Eingesetzt in Kameraobjektiven, Sensorfenstern und Deckgläsern von Displays.

Leitfähig

Transparente leitfähige ITO- / FTO-Beschichtung

Transparente leitfähige Oxidschichten mit einstellbarem Flächenwiderstand von 10–200 Ω/□. Eingesetzt in Touchpanels, Solarzellen und beheizbarem Antibeschlagglas.

Metall

Metall-Sputtern (Cr / Au / Al)

Metallschichten mit hoher Haftung für Elektroden-, Masken- oder Wärmeableitschichten. Vielfach eingesetzt in der MEMS-Mikrofertigung und in Halbleiter-Waferprozessen.

Mehrschicht

Dielektrische Mehrschichtbeschichtung

Abwechselnd hoch- und niedrigbrechende Schichten für Bandpassfilter, Hochreflektoren und Strahlteiler, mit individuell wählbaren Wellenlängenbereichen.

Optische Präzisionsbeschichtung

Für anspruchsvolle Anwendungen in Sensorik, Lasertechnik, Halbleiteranlagen und Medizintechnik übernehmen wir Schichtdesign, Abscheidung und Messung in einem Ablauf – Muster sind bereits ab einem Stück möglich.

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Ionengestützte Abscheidung als Kernverfahren

Hauptverfahren ist die ionengestützte Abscheidung (IAD), ergänzt durch Elektronenstrahlverdampfung und Sputtern. Die Schichten sind dicht, haften sehr gut und sind beständig gegen feuchtigkeitsbedingte spektrale Verschiebung.

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Von UV bis IR

Abgedeckt sind 250 nm (UV) bis 15 μm (IR). Optische Simulation und Messung sind auch als eigenständige Leistungen erhältlich.

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Große Auswahl an Substraten

Glas, Quarz, Kunststoff, Metall und Kristallmaterialien; Planflächen, Linsen, Prismen und Sonderformen, von kleinen Durchmessern bis zu großen Substraten.

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Umfassende Messung und Zuverlässigkeitsprüfung

Gesteuert über ein Qualitätsmanagementsystem nach ISO 9001, mit sechs Spektralphotometern, einem IR-Spektralphotometer, Laserinterferometern sowie Feuchte- und Temperaturschockprüfungen.

Ausgewählte Produkte und gemessene Spezifikationen

i-Linien-Bandpassfilter (365 nm)

Halbleiterlithografie

Steile Flanken und hervorragende Homogenität über die Fläche für Belichtungsanlagen in der Halbleiterfertigung.

Transmission: Ca. 90 %
FWHM: ≤ 7 nm
Abweichung der Mittenwellenlänge: ≤ 2 nm (über Φ100 mm)

UV-Bandpassfilter 220 nm

Tiefes UV

Ein Abscheideverfahren mit geringer UV-Absorption liefert Messkurven, die dem Design mit hoher Reproduzierbarkeit entsprechen.

Transmission: Ca. 90 % (um 220 nm)
Zuverlässigkeit: Keine nennenswerte spektrale Verschiebung nach 288 h bei 60 °C / 90 % rF

Infrarot-Bandpassfilter

Gassensorik

Lassen nur das Absorptionsband des Zielgases durch. Jede Mittenwellenlänge im IR-Bereich ist realisierbar, Vorschläge bereits ab einem Stück.

Zielgase: CH₄, CO₂, CO, NO, SO₂, O₃, SF₆ u. a.
Anwendungen: NDIR-Gassensoren und -Analysatoren

Laserspiegel

Laser

Hochreflektoren für eine oder mehrere Laserwellenlängen, die ausgewählte Beobachtungswellenlängen durchlassen.

KrF 248 nm: Quarzsubstrat, Reflexion ≥ 99,5 %
YAG- und andere Laser: Individuell für 355 / 532 / 633 / 1.064 nm
Mehrere Laser: Blaue Laser, Diodenlaser und Faserlaser

Keil- und Mehrzonenfilter

Spezialfilter

Variieren die Schichtdicke oder kombinieren mehrere Beschichtungen auf einem Substrat, um das Design optischer Module zu vereinfachen.

Keilfilter: Kantenwellenlänge verschiebt sich kontinuierlich mit der Position
Mehrzonenfilter: Kombination aus ND-, AR-, dichroitischen und Metallschichten
Anwendungen: Medizinische Diagnose- und Bürogeräte

Antibakterielle AR-Beschichtung

Medizin · Touch

Verbindet Antireflex- und antibakterielle Wirkung auf Glas- oder Kunststoffsubstraten, optional mit Anti-Fingerprint-Deckschicht (AF).

Antibakterielle Wirkung: Hemmt das Wachstum von Staphylococcus aureus und E. coli
Anwendungen: Medizinische Optikteile, Touchpanels

Infrarot-Langpassfilter (Temperaturmessung und Thermografie)

Merkmal	Sperrbereich (nm)	Sperr-Tavg	5 % Cut-On (nm)	50 % Cut-On (nm)	Durchlassbereich (nm)	Durchlass-Tavg
LWP 2.4 μm	400–2.200	≤ 1%	2.320 ± 30	2.400 ± 50	2.500–3.600	≥ 90%
LWP 5.5 μm	400–5.000	≤ 1%	5.500 ± 400	—	7.500–13.500	≥ 75%
LWP 6.6 μm	1.500–6.400	≤ 1%	6.600 ± 400	6.950 ± 400	7.500–14.000	≥ 80%

* Eine Transmission im Durchlassbereich von über 90 % ist erreichbar. Zudem sind AR-Beschichtungen für 8–14 μm und Breitband-Passfilter für 8–14 μm für IR-Kameras, Thermografie, Thermometer und Fahrzeugsensorik erhältlich.

Optische Präzisions-Dünnschichtprodukte

Kategorie	Produkte
Antireflex	Breitband-, Low-Reflection-, 3-Wellenlängen-, UV-VIS-, Laser-, antibakterielle und IR-AR für 8–14 μm
Filter	Bandpass (Mehrband, tiefes UV, IR), IR-Sperr-, UV-Sperr-, UV-IR-Sperr-, ND-, ND- + IR-Sperr-, Notch-, Fluoreszenz-/Anregungs- und Keilfilter
Spiegel	Dichroitische, Kalt-, Warm-, Laser- und Metallspiegel (Ag, Al)
Strahlteiler	Polarisierende Strahlteiler (PBS), nicht polarisierende Strahlteilerwürfel
Funktionsschichten	Transparente leitfähige ITO-Schichten, wasserabweisende/hydrophile, schmutzabweisende und Gasbarriereschichten

Fotolithografische Strukturierung

Durch die Kombination von Fotolackprozessen mit der Dünnschichtabscheidung lassen sich unterschiedliche Funktionsschichten präzise auf einem Substrat platzieren – für Sensoren, Kameramodule, Encoder und Komponenten der optischen Kommunikation.

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Beschichtung und Strukturierung in einem Ablauf

Abscheidung und Strukturierung erfolgen per Lift-off oder Ätzen auf derselben Linie – das verringert Handhabungsrisiken und Lieferzeit.

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Genauigkeit im Mikrometerbereich

Maskenjustierung statt mechanischer Halterungen ermöglicht dichroitische Linien-/Abstandsstrukturen bis 1 μm.

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Scharfe Kanten, kleinere Abstände

Die Kantenunschärfe der Strukturen liegt bei ca. 5 μm gegenüber ca. 100 μm bei Metallmasken, sodass benachbarte Filterbereiche wie RGB-Bandpassfilter direkt nebeneinander liegen können.

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Integration mehrerer Funktionen

Mehrere Beschichtungen auf einem Substrat kombinieren, z. B. dichroitisch + lichtabschirmend oder Spiegel + absorbierend + AR, um das Design optischer Module zu vereinfachen.

Spezifikationen der Strukturierung

Strukturierungsverfahren: Lift-off / Ätzen
Strukturgenauigkeit: Linie/Abstand bis 1 μm
Belichtung: Mask Aligner
Max. Substratgröße: Φ6 in
Max. Substratstärke: 25 mm (Prismen möglich)
Strukturierung dielektrischer Mehrschichten: Schichtdicke bis 7 μm
Umgebung: Reinraum ISO-Klasse 1

* Die erreichbare Genauigkeit hängt von Beschichtungsart und Strukturdesign ab. Senden Sie uns Ihre Zeichnungen zur Prüfung.

DichroitischARLichtabschirmendMetallAbsorbierendSpiegelND

Darstellung des fotolithografischen Prozesses

Sputterbeschichtung

Gesputterte Funktionsschichten

Hochgeschwindigkeits-Sputtern verursacht kaum Wärmeschäden und bildet gleichmäßige, dichte und sehr gut haftende Schichten auf Kunststoff-, Metall- und 3D-Bauteilen.

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Kein Hardcoat auf Kunststoff nötig

Dank SiO₂-Polymerisationsbehandlung lässt sich Aluminium ohne Hardcoat auf Acryl und andere Kunststoffe aufbringen – auch nach Dutzenden Klebebandtests ohne Ablösung.

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Gleichmäßig auf gewölbten Flächen

Die Schichtdicke ist am Scheitel und am Rand steiler Linsen nahezu gleich, sodass die Reflexionsschwankung gering bleibt.

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Korrosionsbeständiger Schutz

Aluminium mit Siliziumoxid-Schutzschicht zeigt nach über 10 Minuten in 1%iger KOH-Lösung keine Veränderung – mit stabilen Ergebnissen in der Serienfertigung.

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Interferenzfarben

Mehrschicht-Interferenz erzeugt eine große Farbpalette; Sonderfarben sind nach Absprache möglich.

Spezifikationen Sputtern

Max. Werkstückgröße: W160 × L325 × H110 mm
Kunststoffsubstrate: PC, PET, PBT, ABS, PMMA, COP, COC
Weitere Substrate: Glas, Metall, Siliziumwafer, Linsen, 3D-Bauteile
Reflexion Al-Spiegel auf Kunststoff: Ca. 89–90 % (400–700 nm)
Chargenkonstanz: Vernachlässigbare Abweichung über 5 Chargen

* Die max. Werkstückgröße bezieht sich auf die Nutzfläche für Al- + SiOx-Schichten. Reflexion gemessen auf PC-Substraten.

Innenansicht einer Sputteranlage: beschichtete Substrate auf einer rotierenden Trommel und Sputtertargets

Verfügbare Materialien

Metallschichten

AlAgCrTiAuCuPtPdRhRuWGeHfTaMgMoSiSnZnZrNiFe

Oxidschichten

NbOxTiOxAl₂O₃HfO₂Ta₂O₅SiO₂ZrO₂

EMV-Abschirmschichten

Abschirmwirkung: Ag > Cu > Al > Cr > Ti

Rangfolge gemessen bei 50 MHz–1 GHz. AR-Beschichtungen aus Oxiden bieten keine Abschirmung.

Al: Wirksam ab 50 nm, besser ab 500 nm
Ag, Cu: Hohe Abschirmung ab 100 nm
Cr: Deutliche Abschirmung ab 500 nm
Ti: Wirksam bei 1.000 nm

Anwendungsbeispiele

Abschirmschichten für Fahrzeuginnenteile Cr-Verlaufs-Dekorschichten für Leuchten Metallschichten für Fotomasken Gasbarriereschichten für Haushaltsgeräteteile Dekorschichten für Kosmetik-Glasflakons Aluminiumbeschichtung für Kosmetiktuben Farbschichten für Motorradteile Farbschichten für Angelzubehör Dekorschichten für Armaturengriffe Aluminiumbeschichtung für Kunststoffwerkzeuge

Anwendungen & Services

Anwendungen und Zusatzleistungen

Von Medizin- und Messtechnik bis zu Halbleiter- und Laseranlagen: Wir übernehmen auch vor- und nachgelagerte Prozesse und reduzieren so Übergaben zwischen Lieferanten.

Anwendungen

Medizinprodukte (Endoskope, Ophthalmologie, Diagnostik) Mess- und Analysegeräte Gassensoren Belichtungs- und Inspektionsanlagen für Halbleiter Laserbearbeitungsanlagen Kamera- und Sensormodule Projektoren Optische Kommunikation Fahrzeugsensorik Displays und Touchpanels MEMS- und Waferbearbeitung

Services

Zusatzleistungen

Präzisionsreinigung, Glastrennen, Polieren, Kantenschwärzung, Montage und Kleben sowie Prüf- und Messleistungen. Wir liefern vom Einzelmuster bis zur Serie; gängige Bandpassfilter sind als Einzelstücke für Entwicklungstests auf Lager.

Angebotsanfrage

Diese Angaben gehören in Ihre Anfrage

Angebote für Beschichtungen hängen von Substrat, Beschichtungsart und Spezifikationen ab. Wenn Sie uns die folgenden Angaben gleich mit der ersten Anfrage senden, können wir die Machbarkeit schneller prüfen und Ihnen ein genaues Angebot mit Lieferzeit nennen.

1

Anwendung

Wofür das Bauteil verwendet wird, z. B. Sensoren, Kameramodule, Laseranlagen, Displays oder medizinische Geräte.

2

Substrat

Material (Glas, Quarz, Kunststoff, Siliziumwafer, Metall usw.), Form (Planfläche, Linse, Prisma, 3D-Bauteil), Abmessungen und Stärke.

3

Beschichtungsart und optische Spezifikationen

Beschichtungsart (AR, Bandpass, Spiegel, ITO, Metall usw.), Wellenlängenbereich, Soll-Transmission oder -Reflexion und Einfallswinkel. Bitte fügen Sie, falls vorhanden, Spektralkurven bei.

4

Beschichtete Flächen und Strukturen

Ein- oder beidseitige Beschichtung. Für fotolithografische Strukturen oder Teilbeschichtungen fügen Sie bitte eine Zeichnung mit Strukturmaßen und Toleranzen bei.

5

Anforderungen an die Zuverlässigkeit

Einsatzumgebung und Prüfbedingungen, z. B. hohe Temperatur und Feuchte, Temperaturschock, Haftung oder Abriebfestigkeit.

6

Stückzahl

Musterstückzahl sowie geschätzte Serienmenge oder Jahresbedarf.

7

Projektphase und Zeitplan

Ob sich das Projekt in Entwicklung, Musterbau oder Serie befindet, und Ihr gewünschter Liefertermin.

8

Substratbeistellung und Prüfung

Ob Sie die Substrate beistellen oder wir sie beschaffen sollen und ob Sie Prüfdaten wie Spektralmessungen benötigen.

Spezifikationen noch nicht festgelegt? Nennen Sie uns Ihre Anwendung und die Grundanforderungen – wir helfen Ihnen, die passende Beschichtungslösung zu finden. Falls Vertraulichkeit erforderlich ist, teilen Sie uns dies bitte in Ihrer Anfrage mit.

Bereit für Ihr Projekt?

Senden Sie uns Ihre Spezifikationen oder Zeichnungen. Wir antworten innerhalb eines Werktages, helfen Ihnen bei der Wahl des passenden Beschichtungsverfahrens und erstellen ein Angebot.

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